Questão 3500127

Engenharia Elétrica e Engenharia Eletrônica · 2012

Questão

ID 3500127

Disciplina: Engenharia Elétrica e Engenharia Eletrônica

Assunto: Portas Lógicas e Dispositivos Optrônicos

Ano: 2012 Banca: FUNRIO - Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência Órgão: Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A.

Aponte dentre as afirmativas abaixo, aquela que NÃO é correta.

Alternativa A: Do ponto de vista do wafer, a sequência de passos no processo de fotolitografia é: aplicação do filme fotossensível,
alinhamento da máscara com o wafer, exposição do fotoresiste, revelação do padrão.
Alternativa B: O efeito da difração da luz usada para exposição com o padrão da máscara limita a resolução das estruturas.
Alternativa C: No resiste positivo as partes não expostas são dissolvidas na revelação.
Alternativa D: O ambiente da sala de fotolitografia é iluminado em um comprimento de onda que não interfere com o material
fotossensível.
Alternativa E: O fotoresiste é exposto a luz ultravioleta para ser sensibilizado (usualmente as linhas g, h ou i de lâmpadas de mercúrio).