Questão
ID 229744Disciplina: Direito Empresarial (Comercial)
Assunto: Requisitos para Registro e Patente
Ano: 2025 Banca: CESPE CEBRASPE - Centro de Seleção e de Promoção de Eventos UnB Órgão: Instituto Nacional do Semiárido
Em relação a propriedade intelectual e busca de anterioridade, julgue os próximos itens.
Se uma empresa brasileira decidiu patentear um método de fabricação inovador e, após realizar a busca de anterioridade, descobriu uma patente similar registrada no Japão, ainda assim, a empresa pode buscar o registro no Brasil, argumentando que o mercado japonês não abrange a aplicação proposta.