Questão 1985746

Engenharia Elétrica e Engenharia Eletrônica · 2012

Questão

ID 1985746

Disciplina: Engenharia Elétrica e Engenharia Eletrônica

Assuntos: Materiais Condutores, Semicondutores e Isolantes

Ano: 2012 Banca: FUNRIO - Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência Órgão: Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A.


Analise as afirmativas abaixo: I – Durante os estágios iniciais da oxidação, a concentração de dopantes não tem influência na taxa de crescimento do óxido. II – Em óxido com grande concentração de dopante, a taxa de crescimento durante o estágio da oxidação controlado por difusão depende fortemente da concentração de impurezas no óxido de silício (SiO2). III – A migração de dopante para o óxido enfraquece as ligações no óxido, o que facilita a difusão de oxigênio (O2) e água (H2O), aumentando a taxa de crescimento do óxido. A(s) afirmativa(s) correta(s) é (são)
Alternativas da questão 1985746
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