Questão
ID 1985732Disciplina: Engenharia Elétrica e Engenharia Eletrônica
Assuntos: Materiais Condutores, Semicondutores e Isolantes
Ano: 2012 Banca: FUNRIO - Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência Órgão: Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A.
Abaixo são relacionadas 3 (três) técnicas de dopagem.
I – Dopagem por difusão.
II – Dopagem in situ.
III – Implantação iônica.
Assinale a alternativa com a(s) técnica(s) utilizada(s) para a dopagem de polissilício.
I – Dopagem por difusão.
II – Dopagem in situ.
III – Implantação iônica.
Assinale a alternativa com a(s) técnica(s) utilizada(s) para a dopagem de polissilício.