Questão
ID 3500135Disciplina: Química
Assunto: Reagentes e Mecanismos das Reações
Ano: 2012 Banca: FUNRIO - Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência Órgão: Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A.
Depois que o substrato exposto é processado, o fotorresiste é removido da superfície, deixando uma janela no dióxido
de silício. Para a remoção do fotorresiste, utiliza-se tradicionalmente uma série de processos químicos secos ou em
soluções líquidas nos strippers (processos de remover completamente o resiste), que fazem com que o resiste inche e
perca sua adesão do substrato. Dentre os compostos de remoção completa de fotorresiste, qual o que tem o mecanismo
de quebra de ligações e dissolução?
de silício. Para a remoção do fotorresiste, utiliza-se tradicionalmente uma série de processos químicos secos ou em
soluções líquidas nos strippers (processos de remover completamente o resiste), que fazem com que o resiste inche e
perca sua adesão do substrato. Dentre os compostos de remoção completa de fotorresiste, qual o que tem o mecanismo
de quebra de ligações e dissolução?