Questão
ID 3500066Disciplina: Engenharia Química
Assunto: Técnicas de Laboratório e de Caracterização de Materiais
Ano: 2012 Banca: FUNRIO - Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência Órgão: Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A.
No processamento de um fotorresiste, as distintas viscosidades decorrentes determinam a sua espessura em função da
velocidade de rotação do substrato durante seu espalhamento. Depois de espalhado sobre o substrato, o fotorresiste
deve passar por um cozimento pré-exposição, a temperaturas superiores à de sua transição vítrea (55°C), para que
evapore o solvente do resiste. Em seguida, deve ser exposto à radiação ultravioleta. Um enxágue final é utilizado para
a remoção final de resíduos que permanecem sobre o substrato, a fim de se evitar a contaminação. Esse enxágue final,
em geral, é realizado com
velocidade de rotação do substrato durante seu espalhamento. Depois de espalhado sobre o substrato, o fotorresiste
deve passar por um cozimento pré-exposição, a temperaturas superiores à de sua transição vítrea (55°C), para que
evapore o solvente do resiste. Em seguida, deve ser exposto à radiação ultravioleta. Um enxágue final é utilizado para
a remoção final de resíduos que permanecem sobre o substrato, a fim de se evitar a contaminação. Esse enxágue final,
em geral, é realizado com