Questão
ID 1985753Disciplina: Física
Assunto: Física de Materiais
Ano: 2012 Banca: FUNRIO - Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência Órgão: Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A.
A incorporação de oxigênio (O2) residual ao filme fino pode causar