Questão
ID 1985741Disciplina: Engenharia Química
Assunto: Cinética e Cálculo de Reatores
Ano: 2012 Banca: FUNRIO - Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência Órgão: Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A.
O tipo de reator de deposição química melhorada por plasma (PECVD) utilizado para obter um processamento de substratos
com diâmetros maiores que 200 mm
com diâmetros maiores que 200 mm