Questão
ID 1985725Disciplina: Engenharia Química
Assunto: Cinética e Cálculo de Reatores
Ano: 2012 Banca: FUNRIO - Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência Órgão: Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A.
As afirmativas abaixo se referem ao reator de deposição química a partir de vapor em baixa pressão.
I – Na deposição química a partir de vapor em baixas temperaturas, é possível se posicionar os wafers na vertical, com
espaçamento bastante reduzido entre eles, proporcionando o posicionamento de grande número de wafers no interior da
câmara, o que compensa as baixas taxas de deposição em relação à deposição química, a partir de vapor à pressão
atmosférica.
II – Como os gases reagentes são consumidos ao entrarem em contato com os wafers, a concentração de gases reagentes
próxima à entrada da mistura de gases é maior do que a concentração de gases reagentes próxima à saída dos gases.
III - O estabelecimento de um gradiente de temperatura no interior da câmara, com o aumento da temperatura no sentido
contrário ao fluxo de gases (temperatura maior na entrada e menor na saída dos gases) é fundamental para aumentar a
uniformidade dos wafers.
Assinale a alternativa com a(s) afirmativa(s) correta(s):
I – Na deposição química a partir de vapor em baixas temperaturas, é possível se posicionar os wafers na vertical, com
espaçamento bastante reduzido entre eles, proporcionando o posicionamento de grande número de wafers no interior da
câmara, o que compensa as baixas taxas de deposição em relação à deposição química, a partir de vapor à pressão
atmosférica.
II – Como os gases reagentes são consumidos ao entrarem em contato com os wafers, a concentração de gases reagentes
próxima à entrada da mistura de gases é maior do que a concentração de gases reagentes próxima à saída dos gases.
III - O estabelecimento de um gradiente de temperatura no interior da câmara, com o aumento da temperatura no sentido
contrário ao fluxo de gases (temperatura maior na entrada e menor na saída dos gases) é fundamental para aumentar a
uniformidade dos wafers.
Assinale a alternativa com a(s) afirmativa(s) correta(s):