Questão
ID 1985626Disciplina: Física
Assunto: Física de Semicondutores
Ano: 2012 Banca: FUNRIO - Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência Órgão: Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada S.A.
Por que devemos realizar etapa de recozimento térmico após uma etapa de implantação de íons na obtenção de uma junção?
1 – Para corrigir os defeitos causados pela implantação de íons.
2 - Para a ativação elétrica dos dopantes implantados.
3 - Para oxidar a lâmina.
4 - Para definir a profundidade e o perfil de dopagem.
Está (ão) correta (s) apenas a (s) afirmativa (s):
1 – Para corrigir os defeitos causados pela implantação de íons.
2 - Para a ativação elétrica dos dopantes implantados.
3 - Para oxidar a lâmina.
4 - Para definir a profundidade e o perfil de dopagem.
Está (ão) correta (s) apenas a (s) afirmativa (s):