Questão
ID 1477674Disciplina: Química
Assunto: Reações de Oxirredução e Balanceamento
Ano: 2008 Banca: CESPE CEBRASPE - Centro de Seleção e de Promoção de Eventos UnB Órgão: Centro de Tecnologia da Informação Renato Archer
Julgue os itens subseqüentes, relacionados à remoção de camadas de metais, isolantes e semicondutores.
O ataque químico úmido é geralmente usado para a limpeza inicial do substrato, retirando certa quantidade de material por meio de oxidação e remoção do óxido.